书目详细信息
： 衍射极限附近的光刻工艺
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 978-7-302-53742-7:CNY168.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 衍射极限附近的光刻工艺/.伍强等编著 |
| 出版发行项： | 北京:,清华大学出版社:,2020 |
| 载体形态项： | 19,653页:;+图,照片:;+26cm |
| 丛编项： | 高端集成电路制造工艺丛书 |
| 一般附注： | 2019年国家出版基金资助项目 “十三五”国家重点图书出版规划项目 国家出版基金项目 彩色内页版 |
| 提要文摘： | 本书以光刻工艺为主线,有机地将光刻设备、光刻材料、光刻成像的理论计算、光刻工艺中各种建模思想和推导、芯片制造的技术发展要求以及对光刻工艺各项参数的要求紧密地联系在一起,给读者一个整体的图景。 |
| 并列题名： | Photolithography process near the diffraction limit eng |
| 题名主题： | 光刻设备 研究 |
| 中图分类： | TN305.7 |
| 个人名称等同： | 伍强 编著 |
| 记录来源： | CN rh 20220806 |